美推迟限制中国石墨：一则好消息传来，中国将量产12纳米芯片，何时突破5纳米

一则好消息传来，中国将量产12纳米芯片，何时突破5纳米

“话匣子”的老习惯，先给答案，后说理由。

突破12纳米芯片与5纳米芯片没有任何关系，也就是说，是否突破12纳米不影响突破5纳米芯片的时间表。至于什么时候突破5纳米？那就要看中国什么时候可以得到EUV光刻机了。

从制程范围来看，DUV光刻机基本上只能做到25nm，但Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。其实在EUV光刻机研制出来之前，台积电和三星也是用DUV光刻机来制造14纳米芯片。只有EUV光刻机能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。现在台积电和三星的5纳米芯片，正是用EUV光刻机来制造的。

上面这句话证明，中国的这个量产12纳米芯片，也是一种DUV光刻机的极端应用罢了，理论上这种制作方法的极限是10纳米，所以还有研发的余量哦，加油！但无论如何，如果无法获得EUV光刻机，7纳米、5纳米……那是真的没办法制造出来。

目前，EUV光刻机只有荷兰ASML能够生产，全球只此一家！中国想要生产5纳米芯片，就只能向ASML去购买EUV光刻机。但问题是，现在连Intel都买不到，被制裁的中国就更别想买到了。没有EUV光刻机，那就真没办法实现5纳米芯片了。至此，合适突破5纳米这个问题，就变成了合适中国能买到EUV光刻机的问题了。理论上，还是有机会买到EUV光刻机的，但时间就不知道了。

有人会说，我们自己研发出光刻机呀！但问题是，中国现在连DUV光刻机还没研发出来呢，就这个DUV光刻机也只有荷兰ASML和日本佳能和尼康可以生产。如果去等中国自己的EUV光刻机，那真要说“不知道”了，因为是真不知道啊！

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